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新工艺推荐雪花清洗涂覆的玻璃清洁-清洁测试雪花清洁硅粉提供测试服务

正视挑战，增强信心，创造辉煌。在成功取代传统制造工业的同时，满足了现代生产效率，高稳定性和可靠性的精微加工的要求。迪史洁干冰雪花清洗设备俨然成为一家成熟的迪史洁雪花清洁系统生产企业，供应的迪史洁雪花清洁系统受到广大生产型企业的一致好评，产品在产品加工后清洁拥有良好的表现。

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下表列出了干冰雪花精密清洗工艺的重要优势:

干冰雪花高粒子速度穿透“边界层”，将清洁传递到基底；

干冰雪花喷雾产生了一个相当大的紊流状态，增加了局部的剪切应力；

干冰雪花一氧化碳的低“硬度”2颗粒产生非研磨性的清洁过程，可用于各种各样的基底；

干冰雪花开发了小颗粒高能清洗以去除亚微米颗粒；

干冰雪花产生大颗粒高能喷雾以去除较大颗粒；

干冰雪花关键过程变量可以通过各种喷嘴、压力、温度和流速来输入；

干冰雪花冲击表面应力值范围从1兆帕到80兆帕可以很容易地控制清洗效果；可以有效地去除薄的有机表面层。这项技术很容易适用于手动污点清洁、自动在线或孤岛清洁系统以及工具内清洁应用。

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迪史洁干冰雪花清洗是一种的颗粒去除技术，广泛应用于光学、硬盘、表面处理、电子等行业。这种有效清洁技术的关键特征包括能够去除大量颗粒物质而不凝结、不磨损、不残留、不接触。

少量液相迪史洁干冰雪花清洗被注射并与加热和压力调节的惰性推进气体混合，以形成具有可控喷雾组成和清洁能量的均匀清洁喷雾混合物。根据混合喷嘴组件的几何形状、喷雾混合比、推进剂压力和温度，输送到基底的清洁能量是完全可调的。固体迪史洁干冰雪花清洗颗粒以高速撞击基底，在表面污染物上产生高剪切应力。这一作用产生了化学活性固相，提供了颗粒物质、无机残留物和有机薄膜污染物的去除。在与污染物和表面接触后，固体一氧化碳2颗粒升华，没有留下清洁剂的痕迹。残留物通过一个集成的通风系统从清洁区清除。

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玻璃和许多类型的光学器件已经过清洗。清洁的物体包括玻璃、未涂覆的基底、涂覆的玻璃、透镜、各种光学器件、金刚石车削光学器件、硅和锗光学器件、镜子，望远镜镜子，光栅(小心翼翼地)，钻石光学，一个数码相机。

CO2雪清洁可以清洁受污染的表面，去除加工油，去除硅酮脱模剂，清洁真空室的零件，清洁接触销表面，以及许多其他项目。它不能去除的或任何附着的氧化物。

表面科学家有时需要使用表面分析技术，在不改变基底材料的情况下去除无意或有意的污染。在这种情况下，处理、现场测试或仅仅大气暴露造成的残留污染会干扰分析。一般来说，试剂级的溶剂清洗可以去除大多数无意的污染，但也有溶剂清洗不充分的情况。在这些情况下，超声波溶剂清洗可能需要太长时间，或者可能无法去除或充分减少残留物。汽车和化工行业的一些用户就是这种情况，他们对探索测试零件的表面或现场故障感兴趣。二氧化碳雪清洁的用户可以在15秒钟内快速清洁这些部件，并清除足够的残留物，以便进行分析。清洗可能是溶剂作用和冷冻断裂的结合

价格合理的迪史洁雪花清洁系统_常州迪史洁雪花清洁系统_二氧化碳雪花喷射技术行情

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璃和许多类型的光学器件已经过清洗。清洁的物体包括玻璃、未涂覆的基底、涂覆的玻璃、透镜、各种光学器件、金刚石车削光学器件、硅和锗光学器件、镜子，望远镜镜子，光栅(小心翼翼地)，钻石光学，一个数码相机。

CO2雪清洁可以清洁受污染的表面，去除加工油，去除硅酮脱模剂，清洁真空室的零件，清洁接触销表面，以及许多其他项目。它不能去除的或任何附着的氧化物。

表面科学家有时需要使用表面分析技术，在不改变基底材料的情况下去除无意或有意的污染。在这种情况下，处理、现场测试或仅仅大气暴露造成的残留污染会干扰分析。一般来说，试剂级的溶剂清洗可以去除大多数无意的污染，但也有溶剂清洗不充分的情况。在这些情况下，超声波溶剂清洗可能需要太长时间，或者可能无法去除或充分减少残留物。汽车和化工行业的一些用户就是这种情况，他们对探索测试零件的表面或现场故障感兴趣。二氧化碳雪清洁的用户可以在15秒钟内快速清洁这些部件，并清除足够的残留物，以便进行分析。清洗可能是溶剂作用和冷冻断裂的结合

优异的服务是客户的需求，而满足客户的需求是我们不变的宗旨。迪史洁干冰雪花清洗设备为了客户能够更快的接收到产品，我们出售的迪史洁雪花清洁系统提供使用陆运的方式来运送。创新是根本，质量是生命，务实是宗旨，效益是目标。我司坚持创新经营模式，勇于创新勇于尝试；坚持产品质量的追求，不懈进取，努力为客户提供质量过人的产品；我司坚持在务实诚信的基础上，努力实现企业效益的增长。

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