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芯片清洗干冰雪花颗粒清洗设备绿色环保-苏州二氧化碳清洗设备迪史洁清洁技术

“优异的产品、成熟的技术、尽善尽美的服务”是迪史洁干冰雪花清洗设备所有职员的追求目标，作为可靠从事二氧化碳雪花设备的供应商，长期为芯片行业提供成熟技术和良好服务，倡导绿色环保节能，高能和谐发展。公司不断的整合企业资源，以可靠、节能、环保的二氧化碳雪花设备满足芯片行业各方位的需求。

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二氧化碳已被广泛用于清洁玻璃和光学表面。这包括在涂覆光学涂层之前去除污染物，在组装之前或之后清洁表面，以及许多其他应用。我们用二氧化碳雪清洁表面。表面成分，如XPS所发现的和下面给出的，以及光学检查，表明有效清洁。从视觉上看，它们是“干净的”，这一点通过亮场和暗场图像的检查得到了验证。

超临界流体二氧化碳(CO2雪花清洗系统.

无论使用哪种方法，清洗都取决于液体二氧化碳溶剂的性质或冲击固相的能量和动量传递，或溶剂性质和动量或能量传递的组合。颗粒系统依靠宏观颗粒的高冲击速度相关的热机械冲击应力来去除污染物，这是一个动量和能量传递过程。雪喷雾依赖于高速微观雪粒子的动量传递和液态一氧化碳的溶解作用的结合。液态二氧化碳洗涤系统依赖于迪史洁 液相溶剂特性。后，超临界流体系统完全依赖二氧化碳的超临界流体特性。

重要的是，迪史洁干冰雪花清洗应用；CO2雪花表面处理、CO2雪花颗粒去除、CO2雪花烟灰去除、CO2雪花残渣去除、CO2雪花脱脂、检查前清洁和烧结金属清洁。随着我们进一了解我们的能力，我们将继续用新信息更新此列表。

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CO2雪花清洗系统除雪模式？

CO2雪花清洗系统有两个一氧化碳2除雪模式，我称之为高速和低速方法。在高速方法中，小的干冰晶体形成并以高速撞击表面。在这种模式下，粒子去除范围很大，从可见到3 - 5纳米。高速模式还能够去除碳氢化合物、有机物、硅残留物、指纹，甚至水和溶剂斑点。高速模式用于基片、光学器件和许多其他物品的清洗。专色尺寸范围从1/8到1/4英寸，或3到6毫米

CO2雪花清洗系统在低速模式下，初的高速气流进入较大直径的膨胀区，小的干冰气流以较低的速度变成大的雪花。这种模式常见于 望远镜清洗。光学器件也可以应用艺术保护。较大颗粒的去除是主要目标，碳氢化合物或有机物的去除是不可能的。离开膨胀区的液流尺寸为1英寸圆形(25毫米)或2英寸狭缝(50毫米)

CO2雪花清洗系统一般实验室、生产和洁净室清洁，CO2雪花清洗系统衬底制备制造许多金属和陶瓷零件和组件

CO2雪花清洗系统从微电子和混合电路中去除粒子，CO2雪花清洗系统艺术修复、火灾恢复、望远镜等等。

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

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雪花清洗讨论

如果沉积层与基底结合良好，镀膜光学器件将保持镀膜状态。这意味着，如果基底被适当清洁，几乎所有的薄膜沉积层都将保留下来。覆盖层也不会损坏。柯达在1998年的一项专利中表明，玻璃上的一层薄金层在CO2清洗后具有与清洗前相同的反射率。原子力显微镜详细的均方根分析表明，CO2清洗后整体平滑度较好。这一结果是预期的，因为CO2清洗将仅去除物理吸附的物种，而不是化学结合的物种。

一些玻璃是热敏性的，根据我们的经验，玻璃基板或覆盖层不会破裂。然而，也有例外。我们已经看到了磷酸钾、铌酸锂和其他一些玻璃(如NPK52)的问题。一般来说，如果一种材料因热冲击而名声不好，它可能不是一氧化碳的好材料2打扫卫生。然而，氟化镁薄膜完好无损，而块状氟化物样品会立即显示出损坏。

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面对未来新兴科技的挑战，望能与合作伙伴团结协作，共同进步。迪史洁干冰雪花清洗设备实施科技与人才战略，现已做好充足的准备，在未来的几年里预备投入较多资金继续引进清洗清理设备成熟的生产技术以及生产设备，继续招揽清洗清理设备行业经验丰富、技术过硬的人才。在原有基础上不断创新，注入具备创新思想的新鲜血液，让二氧化碳雪花设备能够融入潮流因素，更加符合市场的需求。

欢迎广大新老客户莅临洽谈合作，我们有芯片清洗干冰雪花颗粒清洗设备绿色环保，微电子清洁雪花清洗设备改善清洁工艺，苏州二氧化碳清洗设备迪史洁清洁技术，二氧化碳雪花设备等信息你来询