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真空电镀机，好用的硬质膜镀膜设备哪里有卖， 恒誉真空拥有高素质技术人员，以及强大的销售团队。以企业综合实力为基础，建立现代化率机制，不断加强企业管理，提高经营效益生产硬质膜镀膜设备，产品质量保证，经久耐用，具有能在各种五金件表面镀制各种颜色的装饰性膜层的用途。我司树立“好服务是生命，企业满意是目的”的服务原则，在全国;广东、肇庆深受广大需求群体的认可与好评。

多年来，我公司以市场为导向，不断开发新硬质膜镀膜设备，以适应时刻变化的市场和广大用户的需要。生产的产品主要以批发;零售;面向全国;广东、肇庆供应。我司相信没有品质，便没有企业的明天，采用陆运;公路运输发送货物，以质优、价廉、工期短、售后服务周到赢得广大用户的信赖。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司汇集众多人才，组建高素质人才队伍，于2012-07-23创立，现坐落在肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧。公司主营硬质膜镀膜设备，成熟、精巧的工艺，完善、严格的管理制度，为硬质膜镀膜设备的制造增添一份有力保障。凭借完善的管理体系、雄厚的技术力量以及成熟生产设备，恒誉真空的产品深受需求群体的信赖，用户反馈良好。

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磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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