光学镀膜设备-恒誉真空物超所值的卷绕镀膜机出售
所在地:广东省肇庆市
联系人:宋生
价格:面议
品牌:恒誉,,,,
发布时间:2024-09-21
【产品详情】光学镀膜设备-恒誉真空物超所值的卷绕镀膜
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光学镀膜设备,恒誉真空物超所值的卷绕镀膜机出售, 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司创始于2012-07-23。在竞争日益激烈的机械和行业设备专用配件行业中发愤图强、积极进取、力争上游,创办至今已为广大需求群体提供了数不胜数的好品质卷绕镀膜机,好的产品品质获得了需求群体一致肯定,在消费者中有口皆碑。
恒誉真空经过多年的经营发展,公司已经拥有一支颇具水准的经营团队。生产的卷绕镀膜机主要用于镀膜,主要服务于广东、肇庆地区。我们始终坚持“用心制造,诚信合作,品质经营”的营业理念,为广大需求群体供应优异的产品,同时提高售后服务质量,提升客户满意程度。
“打造行业好,满足客户的可靠需求”,我公司供应的卷绕镀膜机支持在线支付;银行转账的付款方式,一旦您付款,我们将会在双方协商的时间发货(运费:买卖双方协商)。公司拥有成熟的产品检测设备和科学的企业管理方法、精细的制造工艺及高科技人才做保障。卷绕镀膜机好销售国内机械和行业设备专用配件市场。
光学镀膜设备,
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同,大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,两极磁力线闭合于靶面,很好地将电子/等离子体约束在靶面附近,增加碰撞几率,提高了离化效率,因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电,靶材利用率相对较高,但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面,基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念,即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极,两极磁力线在靶面不完全闭合,部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域,从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片,增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
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