太仓希德机械科技有限公司
主营产品:乳化机,均质机,分散机,研磨机,胶体磨,离心干燥机,冷水机,高温烧结炉,真空乳化机成套设备,粉体自动化配料系统,交钥匙工程大成套设备
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医药胶囊混悬液高剪切胶体磨
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产品介绍
医药胶囊混悬液高剪切胶体磨
 
软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物。它密封严密、生物利用度高,药物的稳定性也得到提升,此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明,口服制剂的生物利用度,以内容物为溶液的软胶囊,混悬液次之,再次为含颗粒的硬胶囊,差为片剂。

近年来,超微粉碎技术逐渐应用到软胶囊领域,通过研究发现,药材经过超微化粉碎后,粉末粒径大小分布均匀,球性度和均质度明显改善,这些细粉较易混悬在水或者溶剂以及植物油当中,质量较为稳定。另外随着软胶囊行业的发展,对于胶囊的内容物的处理,出现的大量的设备,如:胶体磨、均质机、分散机等。这些设备通过对内容物的剪切,从内容物粒径更加细化,粉末分散更加均匀。而ikn应对这种情况,研发出了的设备,改良性胶体磨,该胶体磨结合了高剪切胶体磨和高剪切分散机的特点,将二者一体,形成的设备,我们也将它定义为“研磨分散机”
 
研磨分散机,对于软胶囊的生产有着巨大的优势,对于软胶囊内容物的处理十分有效,无论内容物是乳液还是混悬液,都可以将物料充分的细化,提高物料的稳定性和药效。改良型胶体磨的作用力体现在它的剪切力和作用刀头,IKN改良型胶体磨,研磨分散机,有一级胶体磨头和一级分散盘,对物料先研磨后分散机,再配合14000rpm的转速,乳液粒径一般可细化至1-2微米,混悬液一般可细化至3-5微米,当然这也要根据具体的物料性质和工艺来定。

XMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散设备是希德公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)


              
XMD2000系列软胶囊内容物研磨分散机的特点:
①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。