特点:
经典消光法椭偏测量原理 仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
方便安全的样品水平放置方式
采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。
紧凑的 结构
集成 设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便仪器使用。
高稳定性光源
采用半导体激光器作为探测光的光源，稳定性高，噪声低。
丰富实用的样品测量功能
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率、块状材料的复折射率等。
便捷的自动化操作
仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
安全的用户使用权限管理
软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。
可扩展的仪器功能
利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
应用领域:
DHEX3适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
DHEX3可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。

技术指标:
项目
技术指标
仪器型号
DHEX3
测量方式
自动测量
样品放置方式
水平放置
光源
半导体激光器，波长635nm
膜厚测量重复性*
(对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
膜厚范围
透明薄膜：1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
折射率范围 – 10
探测光束直径Φ2-3mm
入射角度30°-90°，精度 °
偏振器方位角读数范围0-360°
偏振器步进角 °
样品方位调整
Z轴高度调节：16mm
二维俯仰调节：±4°
允许样品尺寸
圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm
配套软件
* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
外形尺寸
（入射角度70°时）450*375*260mm
仪器重量（净重）
15Kg
 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次的标准差。
性能保证:
ISO9001 质量体系下的仪器质量保证
专业的仪器使用培训
专业的椭偏测量原理课程